Metrologie pro oblast výroby malých struktur
Metrology of small structures for the manufacturing of electronic and optical devices (IND17 - Scatterometry)
Projektu se účastní šest metrologických institutů (PTB, DFM, NPL, ČMI, MIKES, VSL), tři odborníci v rámci grantů vědecké excelence (JCM - SRN, UET - Finsko, DUT - Holandsko) a jeden finančně nepodporovaný účastník (Nanocomp - Finsko). Projekt je zaměřen zejména na rychlou a vysoce přesnou analýzu geometrických vlastností nanostruktur, který by byla využitelná v průmyslových procesech. Pro takové účely je často vhodné využívat měření rozptylu světla, které na některých typických strukturách (jako jsou např. difrakční mřížky) samo o sobě poskytuje dostatek informace o morfologii vzorku. Cílem projektu je proto vyvinout robustní nástroje pro analýzu dat z rozptylu světla. Jako doplňující metoda je využita mikroskopie atomárních sil, která je schopna poskytnout informace o morfologii přímo, ač mnohem pomaleji a na menší ploše. Porovnáním obou metod bude možné optimalizovat proces detekce morfologie povrchů z optických dat a stanovit jednotlivé nejistoty při takových měřeních. ČMI se v projektu zaměřuje na výpočty rozptylu metodou FDTD (Finite Difference in Time Domain).
Český metrologický institut se zapojil do tohoto projektu výzkumným týmem z ČMI OI Brno v čele s Mgr. Petrem Klapetkem, Ph.D, pklapetek@cmi.cz.